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詳細摘要： edi超純水系統 概述：液晶面板生產大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸，有八分之八十以上工序需要進行化學處理，水質不純將直接影響產品部件性能，因而在...
產品型號：所在地：更新時間：2022-05-30 在線留言
詳細摘要： 去離子超純水設備 概述：去離子超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴格，達到PP級，產水水質要求在18.2MΩ*cm（25℃）以上。去離...
產品型號：所在地：更新時間：2022-05-30 在線留言
詳細摘要： 工業超純水設備 概述：液晶面板生產大約百分之五十以上工序中硅片與超純水有直接接觸，有八分之八十以上工序需要進行化學處理，水質不純將直接影響產品部件性能。
產品型號：所在地：更新時間：2022-05-30 在線留言
詳細摘要： 電子芯片超純水設備 概述：電子芯片超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴格，達到PP級，產水水質要求在18.2MΩ*cm（25℃）以上。
產品型號：所在地：更新時間：2022-05-30 在線留言
詳細摘要： 半導體生產用超純水設備 概述：半導體生產用超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴格，達到PP級，產水水質要求在18.2MΩ*cm（25℃...
產品型號：所在地：更新時間：2022-05-30 在線留言
詳細摘要： 光學材料生產用超純水設備 概述：光學材料生產用超純水設備包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有行溶劑清洗、...
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詳細摘要： 制水工藝： 二級RO+EDI產水量： 0.5-50噸/小時（根據需求定制）電阻率：1Ω·m~18.2Ω·m占地面積： 10平方米適用范圍： 電鍍/化工/鍋爐/食...
產品型號：所在地：更新時間：2022-05-29 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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